Systèmes de positionnement pour applications optiques Steinmeyer

Répétabilité: 1 µm
Charge: 15 kg
Course: 200 mm - 1 000 mm

... Portique XYZ pour les applications hautement dynamiques Personnalisable - Idéal pour les applications dynamiques et de haute précision - Très grande plage de déplacement de 1300 x 800 mm - Accélérations ...

Répétabilité: 0,3 µm - 2,5 µm
Charge: 5 kg - 20 kg
Course: 100 mm - 720 mm

... simultanément Ce système d'inspection se compose de quatre axes en salle blanche et permet la mesure automatisée de plusieurs objets simultanément. Il permet d'obtenir une dynamique élevée et une reproductibilité maximale. ...

Répétabilité: 0,3 µm - 0,5 µm
Course: 50 mm - 200 mm
Vitesse: 30 mm/s

... moins de 3 µm Ce système de positionnement à 3 axes a été développé pour les applications de mesure de haute précision dans les cas où la platine XY déplace l'objet ...

Répétabilité: 0,3 µm - 0,4 µm
Course: 100 mm - 200 mm
Vitesse: 15 mm/s - 25 mm/s

... Système XYZ avec contrôleur Personnalisable : - Idéal pour la mise en place et l'extension de votre application - Répétabilité extrêmement précise jusqu'à 0,3 µm - Pas les plus petits et fiabilité maximale ...

Répétabilité: 0,8 µm - 4 µm
Charge: 1 kg
Course: 25 mm - 25 mm

... Ce système X-Y-Z miniaturisé est idéal pour les applications de positionnement où l'espace est limité. Associée à une broche à filetage fin, la platine XYZ atteint des ...

Répétabilité: 0,001 µm - 3,5 µm
Charge: 6,5 kg
Course: 4 mm - 20 mm

... système de positionnement miniature XYZ-Theta-Phi-Delta à 6 axes (salle blanche ISO 5) Personnalisable : - Idéal pour l'inspection automatisée de wafers et d'optiques jusqu'à 300 mm ...