Résines Fujifilm

... Matériaux pour l'imagerie positive par voie sèche et par immersion, et pour le développement de tons négatifs (NTD) Large gamme de systèmes d'imagerie à haute résolution pour l'exposition à 193 nm, y compris l'imagerie positive par voie ...

... Les séries GKR sont des systèmes de photorésist KrF à tonalité positive qui couvrent une large gamme d'applications. - Matériaux sans PFOS/PFAS - Application à haut rapport d'aspect - Résistance supérieure à la gravure plasma et à l'implantation ...

... critiques, avec une résolution allant de moins de 0,30 µm à plus de 1,0 µm sur divers substrats et une large gamme d'épaisseurs de résine. Résumé du produit - Réserves i-Line avancées pour les substrats non-réfléchissants Familles ...

... Plusieurs séries de systèmes de résistances à base de polyisoprène à ton négatif, applicables à une large gamme de projection, d'imagerie de proximité et de contact et de gravure humide sur des substrats variés Résumé du produit - Série ...

... Série de résistances à tonalité positive et négative pour un large éventail d'applications d'imagerie par faisceau d'électrons - Résolution supérieure - Fenêtres de traitement étendues Résumé du produit Série FEP - Les produits de la ...

... Les produits PBO chimiquement amplifiés de Fujifilm offrent une grande fiabilité avec un faible coût de possession. - Matériaux à fort contraste et à action positive basés sur la chimie des PBO - Photo-imageable à l'aide d'outils d'exposition ...

... Les polyimides développables par solvant de Fujifilm sont une famille de précurseurs de polyimides photo-imageables, couvrant à la fois les températures de durcissement élevées et basses pour les applications de couche de distribution ...

... Fujifilm possède plusieurs formulations de polyimides non photosensibles pour une grande variété de semi-conducteurs et d'applications connexes. - Épaisseurs de revêtement final de 400 angströms à 25 microns - Options de traitement à ...