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Platines de positionnement piézoélectriques Steinmeyer
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Course: 1 mm - 300 mm
Vitesse: 1 mm/s - 10 mm/s
Répétabilité: 0,015 µm - 5 µm
... LA97 Platine linéaire nanométrique Application : balayage Avantage : positionnement nanométrique, également à la verticale Caractéristiques : positionnement avec une résolution extrême ...
Steinmeyer Holding GmbH
Course: 1 mm - 10 mm
Vitesse: 0,2 mm/s - 10 mm/s
Répétabilité: 0,2 µm - 5 µm
... haute résolution Application : micro-scène polyvalente Avantage : pour le balayage à haute résolution Caractéristiques : positionnement à très haute résolution - Vide : toutes les plages de pression HV /UHV jusqu'à ...
Steinmeyer Holding GmbH
Course: 1 mm - 50 mm
Vitesse: 1 mm/s - 50 mm/s
Répétabilité: 0,3 µm - 5 µm
... et sans aimant - Différentes variantes de moteurs : Nanomotion ou moteur piézo - Combinable avec un système de positionnement XYZ (par exemple MT105) - Combinable avec des platines rotatives ...
Steinmeyer Holding GmbH
Vitesse: 180 mm/s - 270 mm/s
Répétabilité: 0,001 µm - 1 µm
Charge: 3 kg
... Platine rotative haute résolution avec ouverture HV / UHV, DUV, salle blanche ISO 6, n x 360°, rep 0.0005°, charge 3 kg, vitesse 270°/s - Salle blanche : variantes jusqu'à la classe ISO 6 (supérieure sur demande) - Vide ...
Steinmeyer Holding GmbH
Course: 360 mm - 360 mm
Vitesse: 200 mm/s - 300 mm/s
... Platine rotative haute résolution à grande ouverture UHV, DUV / EUV, salle blanche ISO 6, n x 360°, rep 0.0003°, vitesse 300°/s, charge 5 kg - Salle blanche : variantes jusqu'à la classe ISO 6 (supérieure sur demande) - ...
Steinmeyer Holding GmbH
Course: 10 mm
Vitesse: 5 m/s
Répétabilité: 0,2 µm - 0,3 µm
... très limité. Des courses jusqu'à 50 mm sont possibles. Le manipulateur est équipé de moteurs piézoélectriques et peut ainsi réaliser des incréments de positionnement de quelques nanomètres pour des applications ...
Steinmeyer Holding GmbH
Course: 20 mm - 200 mm
Vitesse: 5 mm/s - 10 mm/s
Répétabilité: 0,02 µm - 30 µm
... verticaleLA97-MT85 Application : Manipulateur polyvalent Avantage : pour la numérisation à haute résolution Caractéristiques : Positionnement à très haute résolution - Vide : toutes les plages de pression HV / UHV jusqu'à ...
Steinmeyer Holding GmbH
Course: 25 mm - 50 mm
Vitesse: 2,5 mm/s - 5 mm/s
Répétabilité: 0,2 µm - 0,3 µm
... 140°C Options : - Avec ou sans ouverture (Ø 25 mm) - Empilable sur un système compact de positionnement à 3 axes - Empilable dans un système de positionnement compact à 3 axes - Magnétisme : magnétique, ...
Steinmeyer Holding GmbH
Course: 1 mm - 10 mm
Vitesse: 2,5 mm/s - 5 mm/s
Répétabilité: 0,2 µm - 0,3 µm
... 140°C Options : - Avec ou sans ouverture (Ø 25 mm) - Empilable sur un système compact de positionnement à 3 axes - Empilable dans un système de positionnement compact à 3 axes - Magnétisme : magnétique, ...
Steinmeyer Holding GmbH
Course: 1 mm - 100 mm
Vitesse: 1 mm/s - 100 mm/s
Répétabilité: 0,2 µm - 5 µm
... MT105 Application : micro-scène polyvalente Avantage : pour le balayage à haute résolution Caractéristiques : positionnement à très haute résolution - Vide : toutes les gammes de pression HV /UHV jusqu'à 10E-11 mbar - ...
Steinmeyer Holding GmbH
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