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Machine de dépôt MOCVD TurboDisc EPIK 868
par pulvérisation cathodiquede couches mincesà cathodes rotatives

machine de dépôt MOCVD
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Caractéristiques

Méthode
MOCVD
Technologie
par pulvérisation cathodique
Type de dépôt
de couches minces
Autres caractéristiques
à cathodes rotatives

Description

Des performances de pointe avec un maximum d'efficacité du capital et d'économies d'empreinte L'EPIK® 868 de Veeco est le système MOCVD le plus performant de l'industrie des LED qui permet une uniformité et une répétabilité supérieures avec une faible défectuosité. Disponible dans une configuration à quatre réacteurs, l'EPIK 868 est doté de technologies révolutionnaires, notamment les technologies propriétaires IsoFlange™ et TruHeat™, qui assurent un flux laminaire et un profil de température uniforme sur l'ensemble du support de plaquettes. Ces innovations technologiques permettent d'obtenir les rendements supérieurs requis pour les mini et micro LED. La technologie TurboDisc®, qui fait partie intégrante de l'EPIK 868, permet d'obtenir une disponibilité et une durée de fonctionnement maximales du système. Conçu pour la production de masse, le support EPIK 868 de grande capacité peut accueillir plusieurs tailles de plaquettes de 4 ou 6 pouces pour un coût de possession le plus bas possible. Les clients peuvent facilement transférer les processus des systèmes TurboDisc existants vers la nouvelle plate-forme MOCVD EPIK 868 pour une production rapide de mini et micro LED de haute qualité. Excellente uniformité avec une faible défectuosité Architecture compacte en cluster Architecture à haut débit pour une production maximale

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* Les prix s'entendent hors taxe, hors frais de livraison, hors droits de douane, et ne comprennent pas l'ensemble des coûts supplémentaires liés aux options d'installation ou de mise en service. Les prix sont donnés à titre indicatif et peuvent évoluer en fonction des pays, des cours des matières premières et des taux de change.