Machine de dépôt MOCVD TurboDisc K475i As/P

de couches minces

Le système MOCVD MOCVD à la productivité la plus élevée de l'industrie avec les meilleurs rendements de sa catégorie Le nouveau système MOCVD TurboDisc K475i As/P MOCVD de Veeco est le meilleur réacteur de l'industrie pour la production de LED rouges, oranges, jaunes (R/O/Y), ainsi que de cellules solaires III-V multijonction, de diodes laser et de transistors. Le système K475i est doté d'un nouveau concept de réacteur intégrant la technologie Uniform FlowFlange™ de Veeco, qui produit des films d'une très grande uniformité et d'une reproductibilité améliorée entre les wafers et les wafers avec la génération de particules la plus faible du marché. La conception simple de la technologie Uniform FlowFlange permet un réglage facile pour une optimisation rapide du processus et un temps de récupération rapide de l'outil après maintenance pour une productivité maximale dans des applications telles que l'éclairage, le solaire, les diodes laser, les transistors pseudomorphes à haute mobilité électronique (pHEMTs) et les transistors bipolaires hétérojonction (HBTs). La nouvelle technologie Uniform FlowFlange permet une uniformité et une répétabilité des processus inégalées, capables d'entraîner des rendements plus élevés La conception robuste du réacteur offre une facilité d'utilisation et une récupération plus rapide après maintenance pour un temps de fonctionnement maximal La productivité la plus élevée de l'industrie grâce à une automatisation complète Plate-forme éprouvée en production pour un coût d'exploitation réduit au minimum