Machine de dépôt PVD NEXUS PVD-1

par évaporation thermiquede couches mincespour l'optoélectronique

Le NEXUS PVD-1 de Veeco est un système de dépôt physique en phase vapeur sur une seule plaquette. Il s'agit d'un outil polyvalent et facile à utiliser pour de multiples applications. Il garantit simplicité, fiabilité et performance en toutes circonstances. Le système peut être fait sur mesure pour de multiples applications de stockage de données comme le dépôt d'oxyde et de nitrure et une variété de matériaux magnétiques. Il peut être acheté avec une large gamme de tailles de plaquettes et un outil performant et économique pour les semi-conducteurs, les GaAs et les applications d'emballage. Ce système de dépôt physique en phase vapeur peut être facilement mis en forme pour répondre aux exigences particulières du procédé et de la production. Il supporte des plaquettes de différentes tailles de 3" à 8" de diamètre. L'ensemble comprend les cathodes, les mandrins à plaquettes, les collecteurs de gaz, les volets et les ensembles de pompage. Il est conçu pour une intégration simple et rapide avec NEXUS Ion Beam Etch, Ion Beam Deposition et autres outils de dépôt physique en phase vapeur. La modularité fournie simplifie les demandes de formation des opérateurs et de maintenance ainsi que le stockage des pièces de rechange.