Source de pulvérisation d'ions

Source d'ions RF 16cm Source d'ions RF large et uniforme pour les procédés hautement réactifs Veeco propose une large source de faisceau d'ions uniforme pour les procédés réactifs, tels que l'assistance par faisceau d'ions ou le dépôt par faisceau d'ions de revêtements optiques hautement contrôlés. Prise en charge d'un large éventail d'opérations : 50 à 1500eV et 75 à 700mA Fonctionnement fiable et uniforme dans les environnements inertes et oxydants Refroidi à l'eau - Pour un fonctionnement de faible à haute puissance La conception à quatre grilles en option offre une collimation très élevée Comprend le seul Neutralisateur RF sans fil de l'industrie, qui ne nécessite que peu d'entretien et permet de longs cycles de production Le fonctionnement stable et efficace du plasma permet un contrôle précis et une grande répétabilité Convient aussi bien aux processus de production par lots qu'aux processus de production en charge bloquée