Système de mesure de dimension critique Spector

optiquepour semi-conducteurde haute précision

TZTEK fournit des systèmes de haute précision et de répétabilité pour la métrologie des masques qui sont nécessaires pendant la fabrication des masques. Les masques peuvent être GOG et PSM ou autres. Pour les besoins de l'IQC des masques en fabrication, TZTEK fournit des objectifs à longue distance de travail pour protéger le masque avec une pellicule. Pour la mesure CD sur le masque, le système fournit une illumination visible et UV en mode réfléchi et transmis. L'illumination UV peut être utilisée pour mesurer la largeur de la structure jusqu'à 300 nm, la répétabilité (3sigma) est généralement de l'ordre de quelques nanomètres. principales caractéristiques -Mesure des dimensions critiques, inspection des défauts, examen des masques -Disponible pour des tailles de masque jusqu'à 14 pouces et des formes de masque personnalisées -Illumination visible et UV disponible en modes transmis et réfléchi -SECS/GEM -Faible coût de maintenance, stable et fiable