Dresseur de conditionnement pour tampon de polissage de semi-conducteurs
Cette meule est utilisée pour le dressage/conditionnement des tampons de polissage utilisés dans le processus de mise à plat des dispositifs à semi-conducteurs. L'électrodéposition des grains abrasifs appropriés du diamant sélectionné sur un métal de base apporte un dressage/conditionnement stable, et permet de réduire les différences individuelles
Matériaux de travail : Tampon en uréthane, tampon en tissu non tissé, tampon en daim, qui sont des tampons de polissage pour semi-conducteurs
Liaison : Electroplaqué
Spécifications
*Diamètre extérieur : ~φ740D(29B)
*Précision de la base : Planéité ≤ 0,3 Tolérance de réglage ≤ 0,05
*Matériaux de base : SUS304, SUS420
*Revêtement de base : Avec ou sans revêtement Téflon
*Surface galvanisée : une face ou les deux faces
*Grain abrasif : Diamant (type Blocky)
*Taille des particules : #60 ~ 400
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