Système de positionnement XY 782344:025.26

linéaireà double tourillonpour salle blanche

Double axe linéaire XY pour le réglage de haute précision de deux optiques pour les steppers de wafers | exposition ultra-fine aux UV en salle blanche - Assemblages de précision Réglage de haute précision de deux optiques Cet axe linéaire double de haute précision a été développé spécialement pour les "wafer steppers". Deux optiques doivent être positionnées l'une par rapport à l'autre et aussi l'une avec l'autre pour réaliser des structures encore plus fines pendant l'exposition aux UV. Cette solution consiste en deux axes coulissants sur un système de guidage commun. Les deux axes coulissants ont chacun trois chariots, ce qui leur permet de se déplacer partiellement l'un dans l'autre afin de rapprocher les lentilles le plus possible. Imagerie ultrafine dans un environnement extrêmement sec - Développé spécifiquement pour maximiser le rendement et la résolution des systèmes de gaufrage pas à pas - Positionnement simultané des lentilles les unes par rapport aux autres ainsi que les unes avec les autres sur une distance de déplacement de 350 mm - Répétabilité de 1,5 µm dans des conditions de salle blanche extrêmement sèches - Entretien facile grâce à un ensemble codeur-moteur remplaçable Caractéristiques spéciales : - Compatibilité avec les UV - Surfaces polies - Versions pour salle blanche ISO 14644-1 (jusqu'à la classe 1 sur demande) - Utilisation immédiate avec un contrôleur préconfiguré et un logiciel exemplaire