- Vakuum : toutes les gammes HV / UHV jusqu'à 10E-8 mbar
- Liquide de lubrification jusqu'à 10E-8
- Température d'étuvage max : 100°C
- Ouverture en X avec 90 x 90 mm, Y 150 x 150 mm
Le système de positionnement avec ouverture a été combiné à partir de deux platines linéaires pour concevoir une platine XY précise et robuste pour des applications dans le vide poussé et l'ultra-vide. Son concept avec des rails de guidage profilés et des vis à billes de haute précision permet une précision exceptionnelle avec une utilisation optimale de l'espace d'installation.
Elle peut être facilement combinée avec la platine rotative DT155, ce qui permet une large gamme d'applications.
Domaines d'application
Positionnement de précision pour les applications de laboratoire, la microscopie et la technologie des semi-conducteurs, la recherche sous ultravide et sous rayonnement ultraviolet extrême, la préparation d'échantillons, le balayage d'échantillons, la manipulation d'échantillons, les biopuces, l'inspection de plaquettes, l'alignement de plaquettes, le réglage de caméras, la recherche sur les matériaux, l'analyse des matériaux, les lignes de faisceaux, les accélérateurs, les synchrotrons, etc
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