Platine rotative à haute résolution et ouverture stable
UHV, DUV / EUV, salle blanche ISO 6, n x 360°, rep 0.0002°, vitesse 180°/s, charge 15 kg
- Salle blanche : variantes jusqu'à la classe ISO 6 (supérieure sur demande))
- Faisceau : UV, DUV, EUV (rayons X, gamma sur demande)
- Vide : toutes les gammes HV / UHV jusqu'à 10-11 mbar
- Lubrification : liquide jusqu'à 10-8 mbar / sec jusqu'à 10-11 mbar
- Température max. Température de cuisson max : 120°C
Options :
- Disponible en version magnétique, faiblement magnétique ou sans aimant
- Choix des matériaux et lubrification adaptés à l'application
- Version pour salle blanche, laboratoire ou production
- En option avec contrôleur FMC400/450 ou connexion PLC
- Développement spécifique au client avec conception 3D, prototypes, production en série
Domaines d'application
Inspection / microscopie à haute résolution et très stable, par exemple AFM, microscope électronique, microscope ionique, microscope électronique à balayage, microscope à effet tunnel, mesures par lumière transmise dans la technologie des semi-conducteurs, inspection de plaquettes, microscopie de laboratoire, systèmes d'imagerie, analyse d'échantillons, instrumentation de ligne de faisceaux, synchrotron, recherche sur les matériaux, analyse des matériaux
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