Platine de positionnement rotative DT155

piézo1 axecompacte

Platine rotative haute résolution à grande ouverture UHV, DUV / EUV, salle blanche ISO 6, n x 360°, rep 0.0003°, vitesse 300°/s, charge 5 kg - Salle blanche : variantes jusqu'à la classe ISO 6 (supérieure sur demande) - Vide : toutes les gammes HV / UHV jusqu'à 10-11 mbar - Lubrification : liquide jusqu'à 10-8 mbar / sec jusqu'à 10-11 mbar - Température d'étuvage max. Température d'étuvage max : 100°C Configurable en option : - Disponible en version magnétique et faiblement magnétique (sans aimant sur demande) - Choix des matériaux et lubrification adaptés à l'application - En option avec le contrôleur FMC400/450 - Développement personnalisé avec conception 3D, prototypes, production en série Imagerie dynamique et de haute précision Cette platine rotative compacte et plate permet d'obtenir des résolutions extrêmement élevées dans le vide au cours de processus rapides. Grâce à la grande lumière transmise de 79 mm, même les échantillons de grande taille peuvent être positionnés, mesurés et analysés avec précision. Elle peut être combinée à des systèmes multi-axes sophistiqués et peut être facilement contrôlée par nos contrôleurs FMC 400/450. Domaines d'application Microscopie dynamique et de haute précision, par exemple microscope électronique, microscope ionique, microscope électronique à balayage, microscope à effet tunnel, instrumentation de ligne de faisceaux, synchrotron, recherche sur les matériaux, analyse des matériaux, inspection des plaquettes, contrôle de la qualité des semi-conducteurs, recherche sur les semi-conducteurs