Platine de positionnement rotative DT105

piézoélectrique2 axesà boucle fermée

Platine rotative haute résolution avec ouverture HV / UHV, DUV, salle blanche ISO 6, n x 360°, rep 0.0005°, charge 3 kg, vitesse 270°/s - Salle blanche : variantes jusqu'à la classe ISO 6 (supérieure sur demande) - Vide : toutes les gammes HV / UHV jusqu'à 10-11 mbar - Lubrification liquide jusqu'à 10-8 mbar / configuration spéciale sèche jusqu'à 10-11 mbar - Température d'étuvage : - Max. Température de cuisson max : 100°C Configurable en option : - Disponible en versions magnétique et faiblement magnétique (sans aimant en configuration spéciale) configuration spéciale) - Choix des matériaux et lubrification adaptés à l'application - En option avec le contrôleur FMC400/450 - Développement personnalisé avec conception 3D, prototypes, production en série Imagerie haute résolution dans un espace d'installation limité Cette platine rotative compacte et plate permet d'obtenir des résolutions extrêmement élevées dans le vide au cours de processus rapides. La lumière transmise de 36 mm permet de positionner, de mesurer et d'analyser avec précision de petits échantillons. Elle peut être combinée à des systèmes multi-axes exigeants et est facilement commandée par nos contrôleurs FMC 400/450. Domaines d'application Microscopie dynamique et de haute précision, par exemple AFM, microscope électronique, microscope ionique, microscope électronique à balayage, microscope à effet tunnel, microscopie de laboratoire, systèmes d'imagerie, analyse d'échantillons, instrumentation de ligne de faisceaux, synchrotron, recherche sur les matériaux, analyse des matériaux