Magnétron rotatif CM
plande pulvérisation par bombardement ionique

Magnétron rotatif - CM  - Sputtering Components - plan / de pulvérisation par bombardement ionique
Magnétron rotatif - CM  - Sputtering Components - plan / de pulvérisation par bombardement ionique
Ajouter à mes favoris
Ajouter au comparateur
 

Caractéristiques

Spécifications
rotatif, plan, de pulvérisation par bombardement ionique

Description

Le CM est notre bloc d'extrémité à montage externe le plus compact. Il peut traiter des cibles jusqu'à 1000 mm et a une puissance allant jusqu'à 20 kW DC ou 80 kHz MFAC Le bloc d'extrémité à montage externe CM combine haute performance et fiabilité dans un design très compact et léger. Caractéristiques Longueur d'arbre de transmission personnalisable Conception compacte et flexible Cartouche d'étanchéité à l'eau facile d'accès Technologie brevetée de distribution de l'énergie Remplissage et vidange d'eau cible brevetée Conception simple pour moins de pièces La barre magnétique s'ajuste extérieurement à n'importe quel angle Avantages Couverture de substrat plus large que les blocs d'extrémité internes Convient à la plupart des modèles de chambres Toutes les utilités sont externes et restent attachées pendant le changement de cible Haute densité d'emballage ; double cathode dans un espace de 220 mm (avec une cible de 80 mm de diamètre intérieur) Les moteurs d'entraînement peuvent être montés en haut ou en bas et vers l'intérieur ou vers l'extérieur Haute puissance sans impact de chauffage inductif - pas de poussière de brosse Maintenance rapide, simple et en interne Permet la co-pulvérisation, un couplage plasma plus serré et limite le revêtement du blindage

---

Catalogues

* Les prix s'entendent hors taxe, hors frais de livraison, hors droits de douane, et ne comprennent pas l'ensemble des coûts supplémentaires liés aux options d'installation ou de mise en service. Les prix sont donnés à titre indicatif et peuvent évoluer en fonction des pays, des cours des matières premières et des taux de change.