Coucheuse à l'échelle de production PECVD
Candidature
CVD amélioré par plasma d'un empilement en tandem p-i-n de silicium amorphe hydrogéné sur des feuilles métalliques pour la production de multicouches absorbant l'énergie solaire.
Ingénierie et technologie
Le système de revêtement PECVD est une installation de production de type rouleau à rouleau conçue pour le revêtement sous vide d'un côté de feuilles métalliques pouvant atteindre 1340 mm de large.
La zone de dépôt consiste en une ou plusieurs électrodes RF à l'intérieur d'un volume étanche aux gaz et est configurée pour un dépôt ascendant. La configuration particulière des zones de dépôt permet d'éviter la contamination croisée.
Le substrat est préchauffé avant le dépôt du revêtement, chauffé pendant le processus de dépôt et refroidi après le revêtement. Les gradients de température sur la feuille ne dépassent pas 4 oC/cm. La température sur les dispositifs électriques, la plaque incurvée et le substrat est surveillée à l'aide de thermocouples et de capteurs IR.
Le substrat est soutenu mécaniquement par une plaque courbe chauffée. La plaque incurvée est constituée de plusieurs segments ayant un rayon de courbure de 10 mètres.
Un système d'enroulement irréversible permet d'optimiser la tension et la manipulation de la feuille sans la rayer ni la plisser.
Le système de pompage se compose de pompes de surpression mécaniques et de pompes d'ébauche à sec. Les zones RF disposent de lignes de pompage séparées et étranglées pour faire varier les débits et la pression du gaz indépendamment dans chaque zone.
Une plate-forme de service à deux niveaux, une porte de chambre mobile et des électrodes RF assurent la simplicité de la maintenance.
Le système de contrôle applique un concept modulaire pour faciliter l'extension du logiciel de contrôle.
Fiche technique
Substrat : feuilles de métal
Largeur du support : jusqu'à 1340 mm
Epaisseur du support : 50 ... 100 µm
Diamètre maximal du rouleau : jusqu'à 820 mm
Revêtement : a-Si:H
Vitesse de bobinage : 0,05 ... 0,5 m/min
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