Machine de dépôt PVD RT-CsI950

par évaporation thermiquede film métallisésous vide

Système de dépôt de scintillateur à rayons X (CsI), machine de métallisation sous vide poussé CsI Propriétés: Ultra-haute résolution spatiale de l'imagerie ; Réponse rapide pour une imagerie plus nette ; Zones d'image bord à bord de première classe ; Couches absorbantes optiques ou couches réfléchissantes ; Faible dose de rayons X pour le patient ; Application : pour le contrôle et l'inspection de sécurité, l'enseignement de la physique des hautes énergies, la détection des rayonnements nucléaires et les imageries médicales : examen thoracique, mamographie, interoral et panoramique dentaire. Substrats appliqués : verre TFT, plaque de fibre optique, plaque de carbone amorphe, plaque d'aluminium 1. Efficacité : Le modèle RT-CsI950 est doté d'une structure à 2 racks rotatifs. Double capacité pour max. substrat de taille : 500 x400mm. 2. Répétabilité et reproductibilité : Grâce à un système de contrôle des paramètres de haute précision, Logiciel et programme de contrôle de processus automatisé, Fonctionnement convivial. 3. Fiabilité : Fonctionnement non-stop 24h/24 et 7j/7 ; Contrôleur d'épaisseur de film Inficon pour surveiller l'épaisseur du film en ligne. Précision du contrôle de la température : ± 1 ℃, réglage en plusieurs étapes, enregistrement et contrôle automatiques des données de température Le rack rotatif est conçu avec un servomoteur pour une précision et une stabilité élevées. 4. Sécurité : Pompe à vide poussé : pompe moléculaire à suspension magnétique, avec dispositif de soufflage d'azote gazeux pour éviter que des matières dangereuses ne soient exposées dans l'air ; Toutes les électrodes sont équipées de manchons de protection de sécurité.