Machine de dépôt PVD RTSP1000-Tantalum
par pulvérisation cathodique à magnétronde couches mincessous vide

Machine de dépôt PVD - RTSP1000-Tantalum - Shanghai Royal Technology Inc. - par pulvérisation cathodique à magnétron / de couches minces / sous vide
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Caractéristiques

Méthode
PVD
Technologie
par pulvérisation cathodique à magnétron
Type de dépôt
de couches minces
Autres caractéristiques
sous vide
Applications
pour l'industrie de la microélectronique, pour l'optoélectronique, pour l'automobile, pour applications photovoltaïques, pour module photovoltaïque, pour condensateur

Description

Le tantale est le plus utilisé dans l'industrie électronique comme revêtement protecteur en raison de sa bonne résistance à l'érosion. Applications 1. L'industrie microélectronique car les films peuvent être pulvérisés de manière réactive et ainsi la résistivité et le coefficient de température de la résistance peuvent être contrôlés; Les instruments médicaux comme les implants corporels pour sa propriété de haute bio-compatibilité; Revêtements sur les pièces résistantes à la corrosion, comme les puits thermométriques, les corps de vanne et les fixations; Le tantale pulvérisé peut également être utilisé comme barrière de résistance à la corrosion efficace si le revêtement est continu, défectueux et adhère au substrat destiné à protéger. Avantages -Un chariot standardisé est appliqué, ce qui permet un chargement / déchargement facile et sûr des supports de substrat et des pièces de travail dans / hors de la chambre de dépôt. -Le système est verrouillé de sécurité pour empêcher un fonctionnement incorrect ou des pratiques dangereuses. -Les radiateurs de substrat sont fournis qui sont montés au centre de la chambre, un thermocouple contrôlé par PID pour une grande précision, pour améliorer l'adhérence du film de condensation. -Fortes configurations de pompes à vide avec pompe moléculaire à suspension magnétique via une vanne à vanne reliée à la chambre; soutenu par la pompe de racines de Leybold et la pompe à palettes rotatives à deux étages, pompe mécanique. -Une source de plasma ionisé à haute énergie est appliquée avec ce système pour garantir l'uniformité et la densité.

VIDÉO

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* Les prix s'entendent hors taxe, hors frais de livraison, hors droits de douane, et ne comprennent pas l'ensemble des coûts supplémentaires liés aux options d'installation ou de mise en service. Les prix sont donnés à titre indicatif et peuvent évoluer en fonction des pays, des cours des matières premières et des taux de change.