Machine de dépôt PVD RTES1600
par pulvérisation cathodique à magnétronpar évaporation thermiquede couches minces

Machine de dépôt PVD - RTES1600 - Shanghai Royal Technology Inc. - par pulvérisation cathodique à magnétron / par évaporation thermique / de couches minces
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Caractéristiques

Méthode
PVD
Technologie
par pulvérisation cathodique à magnétron, par évaporation thermique
Type de dépôt
de couches minces, de film métallisé
Autres caractéristiques
sous vide
Applications
pour l'industrie de la microélectronique

Description

Électro interférence magnétique protégeant Metalizer, IEM protégeant l'équipement de revêtement, machine de revêtement conductrice de film de PVD IEM : Le revêtement d'interférence électromagnétique est particulièrement conçu pour qu'élém. élect. et des appareils électroniques évitent de l'interférence d'électromagnétique. Sa conductivité élevée et interférence élevée de magnetc protégeant des propriétés sont très utilisées dans des dispositifs de télécommunication, des ordinateurs, l'électronique grand public, des dispositifs d'appareil, aérospatiaux et militaires ménagers La préparation de surface shileding d'IEM a été appliquée avec l'industrie de téléphone portable pendant des années. Nos clients sont : Sumgsung, Iphone, Lenovo, téléphones de Huawei fabrique. Électro interférence magnétique protégeant des caractéristiques de Metalizer 1) Approprié aux plastiques, céramique, verre et métal, apprête le dépôt, 2) le gabarit et le support de duo ont conçu la structure, la productivité élevée 3) vitesse déposante élevée, 4) Bonne uniformité et contrôle d'épaisseur de revêtement précis 5) Excellente adhérence

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