Machine de dépôt PVD RTSP1200
par pulvérisation cathodique à magnétron

Machine de dépôt PVD - RTSP1200 - Shanghai Royal Technology Inc. - par pulvérisation cathodique à magnétron
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Caractéristiques

Méthode
PVD
Technologie
par pulvérisation cathodique à magnétron

Description

Machine de revêtement de pulvérisation du tantale PVD, films de tantale déposés par le magnétron de C.C pulvérisant, électrodéposition de tantale de PVD Le tantale est le plus très utilisé dans l'industrie électronique et comme revêtement de protection dans beaucoup d'industries en raison de sa bonne résistance à l'érosion. Les films pulvérisés de tantale sont très utilisés dans 1. l'industrie de la microélectronique comme films peut être réactivement pulvérisée et ainsi le coefficient de résistivité et de température de résistance peut être commandé ; 2. Instruments médicaux comme des implants de corps pour sa fortement propriété de biocompatability 3. revêtements sur les parties anticorrosion, telles que des thermowells, des corps de valve, et des attaches ; Le tantale pulvérisé peut être également soit employé comme barrière efficace de résistance à la corrosion si le revêtement est continu, defectected et est adhérent au substrat est prévu pour se protéger. La technologie royale a conçu et a établi 2 le système de pulvérisation de magnétron des modèles PVD pour l'application de clients exclusivement. Modèles RTAS1200 et RTAS1000. Caractéristiques de conception de machine de dépôt merci de pulvérisation : Conception robuste, qualité stable, cycle rapide, durée de cycle rapide, vitesse élevée de dépôt

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machine de revêtement de pulvérisation de magnétron

* Les prix s'entendent hors taxe, hors frais de livraison, hors droits de douane, et ne comprennent pas l'ensemble des coûts supplémentaires liés aux options d'installation ou de mise en service. Les prix sont donnés à titre indicatif et peuvent évoluer en fonction des pays, des cours des matières premières et des taux de change.