Alimentation électrique DC/DC EBL

monophaséeavec protection contre les courts-circuitsavec protection pour surcharges

L'alimentation haute tension EBL de Wisman est conçue pour les applications de faisceau d'électrons de précision, telles que la nanolithographie des semi-conducteurs, la micro-optique et le travail sur les masques de développement. Elle présente une ondulation très faible et d'excellentes caractéristiques de stabilité, ce qui convient parfaitement aux applications très exigeantes. Il est possible de sélectionner une plage de courant de sortie faible et une plage de courant de sortie élevée. La partie haute tension de l'encapsulation solide élimine tout problème de maintenance pour l'utilisateur tout en isolant les composants des variables environnementales. L'appareil est entièrement protégé contre les surcharges, les arcs électriques et les courts-circuits. Il offre des fonctions de programmation et de surveillance à distance. Permet une mesure passive précise de la haute tension de sortie. En option, USB2.0, port réseau, communication numérique RS-232, RS485, peuvent être personnalisés en fonction des besoins de l'utilisateur. APPLICATION TYPIQUE Micro-optique Lithographie des semi-conducteurs Machine d'exposition des semi-conducteurs Masque SPECIFICATION Tension d'entrée : Interrupteur en option Régulation de la tension : ±0,001 % de la tension nominale dans la plage de tension d'entrée spécifiée Régulation de la charge : ≤20V, variations de courant de 25μA à 60μA et de 60μA à 25μA ondulation : Valeur crête à crête≤70mV Micro-décharge à haute tension : Moins de 200mV stabilité : Après 6 heures de préchauffage, 0,001% toutes les 8 heures, la température est de 20℃±0,2℃ Coefficient de température : 25ppm par degré Celsius dans la plage de 10°C à 40°C Environnement : Température de fonctionnement : 0 à 40 degrés Celsius Température de stockage : -40 à 85 degrés Celsius Humidité : 10 à 90 % HR, sans condensation Refroidissement : Refroidissement par convection Panneau avant :