Stepper NPS300

Orientée R&D avancée et ligne pilote, la NPS300 est un Stepper haute précision et haute force conçu pour la nanoimpression. Optimisée pour la réplication de nanostructures avec une précision de ± 0,5 μm, la NPS300 (NanoPatterning Stepper) est le tout premier équipement capable de combiner, sur la même plateforme, lithographie à chaud et nanolithographie UV. La NPS300 est capable d’imprimer des géométries inférieures à 20 nm avec une précision de superposition de 250 nm. Son architecture flexible offre une excellente reproductibilité de procédé et une capacité unique à structurer de grandes surfaces, en mode Step & Repeat sur des wafers allant jusqu’à 300 mm. Elle permet de fabriquer à faible coût de grands tampons présentant des motifs répétés. • Equipement de Lithographie par Nanoimpression combinant “Hot Embossing” et “UV-NIL” sur wafer jusqu’à 300 mm avec mode “Step & Repeat” • Résolution d’impression meilleure que 20 nm et précision de superposition de 250 nm adressant plusieurs applications : Moyens de stockage structurés, optique, bio, etc… • Possibilité d’ajouter un gaz inerte pour une impression plus rapide • Haute précision et petit volume de dispense de résine • Chargement automatique de tampon pour une meilleure flexibilité et des tailles de tampons de 50 / 65 mm jusqu’à 100 mm • Chargement / Déchargement de wafer Manuel ou Automatique • Technologie par coussin d’air et structure granit assurant stabilité et fiabilité à long-terme