Impuretés retirées : H2O, O2, CO, CO2, CnHm
• Procédure de purification : chimisorption + adsorption
• Principe : Le gaz passe par un catalyseur spécial et une couche d’adsorbant où les impuretés sont retirées.
• Principaux domaines d’utilisation : industrie des semi-conducteurs, gaz de soudage, gaz de protection…
Informations techniques :
• Pression : jusqu’à 380 barg
• Taux d’impuretés à la sortie : < 10 ppb
• Version semi- automatique ou automatique (HMI/PLC)