Purificateur de gaz d'hélium C/N

au sol

Impuretés retirées : O2, H2O, H2 • Procédure de purification : adsorption + catalyse • Principe : Le gaz passe par un catalyseur spécial et une couche d’adsorbant où les impuretés sont retirées. • Principaux domaines d’utilisation : industrie des semi-conducteurs, gaz de soudage, gaz de protection… Informations techniques : • Pression : jusqu’à 380 barg • Taux d’impuretés à la sortie : < 10 ppb • Version semi- automatique ou automatique (HMI/PLC)