Impuretés retirées : N2, Ar, O2, CO, CO2, H2O, CH4
• Procédure de purification : adsorption cryogénique
• Principe : Le gaz passe par une couche d’adsorbant à très basse température.
• Principaux domaines d’utilisation : mobilité, énergie solaire, industrie des gaz, industrie des semi-conducteurs
Informations techniques :
• Pression : jusqu’à 380 barg
• Taux d’impuretés à la sortie : < 10 ppb
• Version semi- automatique ou automatique (HMI/PLC)