Machine de dépôt solaire LD-42 series

Dépôt d'une couche d'oxyde tunnel, i-Poly et D-poly pour les cellules solaires TOPCon. - Caractéristiques du procédé à basse pression et à paroi chaude, avec une meilleure uniformité du film et une bonne compacité. - Procédé LPCVD, les substrats densément chargés ont peu d'effet sur le taux de revêtement, avec une grande capacité de chargement dans un seul tube. - Plus de zones de température pour assurer l'uniformité entre les plaquettes de manière fiable. - Entrée d'air segmentée réglable de manière indépendante pour compenser l'effet d'appauvrissement du flux d'air.