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Machine de dépôt ALD PD-520 seriesde couches minces
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Caractéristiques
- Méthode
- ALD
- Type de dépôt
- de couches minces
Description
Dépôt de couches minces d'AlO+SiN.
- Procédé de dépôt par couche atomique, avec une meilleure uniformité du film.
- Dépôt de couches minces multiples dans le même équipement de traitement ou le même tube de four, ce qui réduit les étapes du processus et le taux de rupture des plaquettes, améliorant ainsi le rendement.
- Recherche et développement indépendants sur la technologie de distribution de vapeur de précurseur de source liquide et de commutation rapide de précurseur.
- Convient au dépôt d'une couche de passivation pour différents précurseurs et matériaux, avec une grande marge de manœuvre pour l'expansion du processus.
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Horizontal Furnaces Series
* Les prix s'entendent hors taxe, hors frais de livraison, hors droits de douane, et ne comprennent pas l'ensemble des coûts supplémentaires liés aux options d'installation ou de mise en service. Les prix sont donnés à titre indicatif et peuvent évoluer en fonction des pays, des cours des matières premières et des taux de change.