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Machine de nettoyage à sec Optiwet
pour wafersde traitement par voie humided'accrochage

Machine de nettoyage à sec - Optiwet - RoboTechnik Intelligent Technology Co., Ltd. - pour wafers / de traitement par voie humide / d'accrochage
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Caractéristiques

Technologie
à sec
Applications
pour wafers
Autres caractéristiques
de traitement par voie humide, d'accrochage

Description

Traitement humide des plaquettes / substrats / masques Nettoyage, développement, décapage, gravure, divers procédés chimiques dont Piranha, HF, SC1 et SC2, Megasonic et haute pression Version autonome et pour banc humide Taille maximale des plaquettes : Ø 12" (Ø 300 mm) / Ø 600 mm / Ø 750 mm Mandrins personnalisés 200 recettes programmables

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Ceci est une traduction automatique  (voir l’original en anglais)

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