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Machine de polissage silicium TX-V12000/16000industriellede surface
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Caractéristiques
- Matière usinée
- silicium
- Domaine
- industrielle
- Autres caractéristiques
- de surface
Description
Débit : 12000-16000 gaufrettes/heure
Taux de rupture : M10<0,01%/M1298%
Caractéristiques :
Polissage alcalin pour les cellules solaires à haut rendement TOPCon, BC, HJT
Utilisé pour le polissage, la gravure et le traitement de nettoyage
Nettoyage par nano-bulles pour obtenir un nettoyage efficace de la surface de la plaquette de silicium
Avec zone de nettoyage à sec et système d'auto-nettoyage
Évite la contamination croisée et les temps de réaction supplémentaires
Amélioration des matériaux connexes pour éviter la précipitation des impuretés
Convient aux fonctions MES et RFID
Équipement intelligent, statistiques sur la consommation d'énergie et fonction d'analyse
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* Les prix s'entendent hors taxe, hors frais de livraison, hors droits de douane, et ne comprennent pas l'ensemble des coûts supplémentaires liés aux options d'installation ou de mise en service. Les prix sont donnés à titre indicatif et peuvent évoluer en fonction des pays, des cours des matières premières et des taux de change.