Spectromètre à fluorescence WaferX 310

WDXRFde process

WaferX 310 de Rigaku représente le point culminant de 35 ans d'expérience de l'analyse de fluorescence de rayon X des couches minces sur des gaufrettes de silicium. Spécifiquement développé comme outil de métrologie de dans-processus, le système incorpore la technologie « d'outil de pont » — entretenant 6", 8", aussi bien que le dernier 12" gaufrettes. Épaisseur et composition simultanées Le WaferX 310 est idéal pour mesurer BPSG, PSG et films en métal. En outre, la couche mince BPSG, le film multicouche de circuit, le WSix, les films d'électrode, les couches minces ferrodielectric, les FRAM, la DRACHME de prochaine génération, et le SiOF sont des demandes standard de cet outil. Analyse pour soutenir la technologie submicronique Des analyses fortement précises pour les éléments ultra-légers tels que B et P en film de BPSG a été améliorées sensiblement en utilisant un tube à rayon X de la puissance 4kW élevée avec une fenêtre mince superbe de béryllium de fenêtre. Conception avancée L'instrument utilise un mécanisme de réglage de la hauteur de gaufrette pour compenser des différences dans l'épaisseur de gaufrette et un mécanisme de manière d'éviter de diffraction pour éliminer l'interférence de diffraction pour les métaux de transition. FOUP intégré (SMIF) est disponible, soutien C--c à la norme. De diverses cassettes d'utilisateur peuvent également être chargées. L'option d'à travers-le-mur de FOUP (SMIF) est disponible.