Système de métrologie pour wafers XHEMIS EX-2000

OUTIL DE MÉTROLOGIE XRR ET XRF POUR LES PLAQUES DE BLANCS JUSQU'À 200 mm Épaisseur, densité, rugosité et composition des films sur les plaquettes de silicium Cet outil polyvalent de métrologie par rayons X utilise la fluorescence des rayons X (XRF) et la réflectivité des rayons X (XRR) pour mesurer de manière non destructive et à haut débit l'épaisseur et la densité des plaquettes de silicium, qu'il s'agisse de films monocouches ultrafins ou d'empilements multicouches, pour le développement de procédés et le contrôle de la qualité des films. CONÇU POUR LA FABRICATION DE GROS VOLUMES Le XHEMIS EX-2000 est conçu pour la fabrication en grande série de plaquettes jusqu'à 200 mm. L'alignement exceptionnel de la platine avant la mesure permet une mesure rapide et précise d'une variété d'échantillons de plaquettes. Le contrôle très précis de la platine permet de réaliser des mesures de cartographie de surface complète en peu de temps. OUTIL CONÇU DE MANIÈRE CONVIVIALE Lorsqu'il est équipé d'un robot de transfert, le XHEMIS EX-2000 peut manipuler les wafers automatiquement. AutoCal (une fonction de calibration automatique) maintient des conditions d'outil constantes. Un logiciel convivial facilite l'utilisation de l'outil et l'analyse des données. Cet outil peut être utilisé pour une variété d'applications allant de la recherche à la production pour le contrôle de la qualité. Large gamme de matériaux et d'applications Évaluation simultanée de l'épaisseur, de la densité et de la rugosité du film Mesures de plaquettes à haut débit Résultats absolus à partir du XRR (aucun standard de calibration requis) Cartographie de la totalité du wafer et mesures à grande vitesse par XRF Haute résolution et précision couvrant des épaisseurs de Ångstroms à microns Accepte les plaquettes de 200 mm, 150 mm, 125 mm et 100 mm Fonction d'auto-calibration disponible