Spectromètre à fluorescence TXRF-V450

de fluorescence X en réflexion totalede processà l'état solide

L'analyse de TXRF peut mesurer la contamination dans tous les processus ouvriers, y compris le nettoyage, le litho, gravure à l'eau forte, l'incinèration, les films, etc. Le TXRF-V450 peut mesurer des éléments de Na par U avec un monocible, le système de rayon X de 3 poutres et un système sans azote liquide de détecteur. Le TXRF-V450 inclut le système breveté d'étape témoin de XYθ de Rigaku, un système de transfert robotique de gaufrette de dans-vide, et le nouveau logiciel convivial de fenêtres. Toute la ces derniers contribue à une sortie plus élevée, de grande précision et à une précision, et à une opération courante facile. La capacité intégrée de VPD permet la préparation automatique de VPD d'une gaufrette tandis qu'une mesure de TXRF est faite sur une autre gaufrette pour la sensibilité la plus élevée et la sortie élevée. VPD-TXRF élimine la variabilité d'opérateur qui peut se produire avec ICP-MS, et VPD-TXRF peut être complètement commandé par l'intermédiaire de l'automatisation industrielle. La récupération de VPD des secteurs choisis, y compris le secteur biseauté, est disponible. Le logiciel facultatif du balayage TXRF permet à la cartographie de la distribution de contaminant au-dessus de la surface de gaufrette d'identifier « les points chauds » qui peuvent être automatiquement remesurés à une plus haute précision. La capacité facultative de ZEE-TXRF surmonte l'exclusion historique de bord de 15mm des conceptions originales de TXRF, permettant à des mesures d'être faites avec l'exclusion zéro de bord. La capacité facultative de BAC-TXRF permet des mesures plein-automatisées du côté avant et du postérieur TXRF des gaufrettes de 450mm avec le basculement de non contact de gaufrette.