Ligne de traitement pour cellule solaire InOxSide®

chimiquehumide

L'équipement de traitement automatisé RENA InOxSide® 3 est conçu comme une solution intégrée pour l'isolation des bords, le polissage de la face arrière et l'élimination du verre dopé des cellules solaires en silicium. La technologie InOxSide® est le meilleur choix pour la fabrication de cellules solaires en silicium Al-BSF, PERC et PERT, en utilisant le processus qui permet d'obtenir le coût d'exploitation le plus bas et les meilleures performances. Elle est basée sur la plateforme en ligne RENA NIAK. Caractéristiques et avantages Gravure chimique humide d'une seule face entièrement automatisée dans un processus de type en ligne sur 5/6 pistes Gravure de l'émetteur sur une seule face, polissage de la face arrière et élimination des verres dopés (PSG/BSG) Utilise HF/HNO3/H2SO4 pour la gravure simple face, ce qui permet d'obtenir le meilleur coût de possession (CoO) de sa catégorie Technologie brevetée RENA Gravure arrière réglable : 1 à 5 µm, jusqu'à 6 µm avec l'option RENA PreCon) Rinçage et séchage intégrés des wafers Capacité de production jusqu'à 6000 wafers/heure Compatible avec les tailles de plaquettes M0, M1, M2, M4, M6 et M12 Longue durée de vie du bain grâce à la fonction d'alimentation et de purge Système de dosage précis pour une composition constante du bain Utilise des rouleaux sans joint torique Taux de rupture le plus bas de l'industrie Basé sur la plateforme de traitement en ligne RENA NIAK Temps de fonctionnement élevé Maintenance aisée Options Interface MES (SECS/GEM) Armoire à médias pour l'approvisionnement en produits chimiques Station de pompage pour l'évacuation des produits chimiques et des eaux usées Capteurs pour le contrôle du processus (par ex. pH, conductivité) RENA RaPID (solution anti-PID de RENA)