Système de nettoyage de traitement par voie humide Inception

à solvantpar aspersionà l'acide

RENA Inception, le système compact semi-automatisé de traitement d'une seule tranche de silicium, est une solution idéale pour les processus de nettoyage chimique humide, de gravure et d'élimination des résistances. Cette plateforme permet de passer de la R&D à la production pilote dans la fabrication de semi-conducteurs. Inception peut être utilisé pour des applications acides en FEoL ainsi que pour des applications de solvants en BEoL. Elle offre une uniformité de gravure supérieure <= 1% au sein d'une plaquette, d'une plaquette à l'autre et d'un lot à l'autre. Inception se compose de deux bras de pulvérisation mobiles avec des lignes chimiques séparées qui, associées à la conception de réservoirs multiples, offrent des caractéristiques de traitement en plusieurs étapes. Une variété de mandrins est disponible pour différentes tailles de plaquettes et de substrats afin de permettre une installation facile pour différentes applications. Le logiciel IDX Flexware de RENA offre de nombreuses caractéristiques avantageuses pour le contrôle et la surveillance des processus. Tous les systèmes RENA sont conformes à l'interface SECS/GEM de l'usine hôte. Caractéristiques et avantages Plaques jusqu'à 200 mm et masques jusqu'à 7 x 7 L'uniformité de la gravure dépasse celle des systèmes par lots Manipulation manuelle ou automatisée des plaquettes Port de chargement simple ou double réservoir de traitement de 2 à 4 produits chimiques Contrôles de concentration hyper précis (ABB, Horiba, CI Semi) Capacité de dopage hyper précise (Chemical & DI) Compensation chimique automatique des pertes Faible encombrement