Banc humide à immersion Revolution

batchpour semi-conducteurpour wafers

Pour les procédés de chimie humide des semi-conducteurs en plusieurs étapes, RENA propose un banc humide semi-automatique flexible et compact, le "Revolution". Cette plate-forme se compose d'un robot rotatif central intégré et robuste et de 5 réservoirs de traitement situés autour du robot. Le "Revolution" est la solution la plus idéale, la moins encombrante et la plus économique pour les applications qui requièrent une séquence de processus en plusieurs étapes. Elle assure le traitement de surface des plaquettes de semi-conducteurs, y compris la gravure, le nettoyage et le décapage des résistances, dans les applications FEoL et BEoL. La "Révolution" offre un contrôle et une surveillance supérieurs du processus grâce à l'utilisation du logiciel IDX Flexware. Le logiciel IDX Flexware offre des caractéristiques et des capacités avantageuses. En fonction des besoins du client, des configurations de réservoirs spécialisés, par exemple des réservoirs brevetés pour la gravure des métaux et le décollage des métaux, peuvent être incorporées dans cette station chimique. Pour les processus de séchage à sec, les sécheurs brevetés Genesis Marangoni peuvent être intégrés. Tous les systèmes RENA sont faciles à entretenir et conformes à l'interface SECS/GEM de l'usine hôte. Caractéristiques et avantages Capacités de séchage à sec taille des plaquettes de 100 mm à 200 mm Logiciel de contrôle IDX Flexware Séquences à plusieurs étapes Multiples technologies propriétaires Écran tactile HMI Robot rotatif robuste Options d'interface SECS/GEM Mini-environnement en option Version en acier inoxydable pour les applications de solvants Flexible et évolutif Adapté aux spécifications du client Réduction de l'utilisation de produits chimiques et d'eau distillée Réduction des coûts de l'installation