Conception avancée, structure simple et pratique, installation et maintenance faciles, faible coût d'exploitation, courant de faisceau d'ions important, répondant aux exigences du traitement par plasma et des auxiliaires, pouvant s'adapter à une variété de systèmes de dépôt, et devenir une excellente unité de support pour les machines de revêtement haut de gamme.
Élimine efficacement les molécules d'eau et les hydrocarbures à la surface de la pièce ; améliore la croissance du film et optimise sa structure ; augmente la cohérence et la répétabilité du film.
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