Machine de dépôt PVD SP seriesPECVDpar pulvérisation cathodique à magnétronpar évaporation thermique
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Caractéristiques
- Méthode
- PVD, PECVD
- Technologie
- par pulvérisation cathodique à magnétron, par évaporation thermique, par évaporation par arc, assisté par faisceau d'ions
- Type de dépôt
- de couches minces
- Autres caractéristiques
- sous vide
Description
Équipement de revêtement pour la recherche scientifique
L'équipement de revêtement sous vide expérimental a les caractéristiques suivantes : belle apparence, structure compacte, performances diverses, fonctionnement simple et fiable, et faible consommation d'énergie. Il peut réaliser le revêtement par évaporation, le revêtement par pulvérisation magnétron, le revêtement par arc, le CVD, le PECVD et d'autres processus. Il peut être contrôlé manuellement, semi-automatiquement et entièrement automatiquement. Vous pouvez choisir parmi de nombreuses tailles et de nombreux modèles.
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* Les prix s'entendent hors taxe, hors frais de livraison, hors droits de douane, et ne comprennent pas l'ensemble des coûts supplémentaires liés aux options d'installation ou de mise en service. Les prix sont donnés à titre indicatif et peuvent évoluer en fonction des pays, des cours des matières premières et des taux de change.