Machine de dépôt PVD Pi411 PLUS

Grâce à sa conception modulaire et à la large gamme de technologies disponibles, le PLATIT Pi411 PLUS est l'unité de revêtement PVD la plus flexible au monde. La configuration de base, une unité de revêtement à l'arc avec trois cathodes rotatives dans la porte, peut être adaptée de manière modulaire sur le site. Elle peut être complétée par une cathode centrale à arc ou à pulvérisation, ainsi que par des procédés PECVD et OXI. L'unité de revêtement est également dotée de la technologie hybride LACS®, qui permet de revêtir simultanément à l'aide des technologies d'arc et de pulvérisation. Les multiples options de configuration et la grande flexibilité des cathodes rotatives permettent de développer des revêtements PVD personnalisés au plus haut niveau de performance. Cette unité de revêtement est donc le choix idéal pour les clients qui ne veulent faire aucun compromis technologique et qui recherchent un maximum de flexibilité et de performance. Technologie L'unité de revêtement PVD PLATIT Pi411 PLUS vous offre plusieurs options technologiques : ECO Configuration de base : 3 cathodes LARC® (LAteral Rotating Cathode) dans la porte pour le revêtement à l'arc PECVD (DLC2) Pour les revêtements a-C:H:Si TURBO Configuration ECO + cathode CERC® (CEntral Rotating Cathode) avec technologie de revêtement à l'arc pour une productivité accrue ainsi que pour des revêtements très complexes OXI Pour les revêtements PVD à base d'oxyde avec une structure en corindon SCIL Pulvérisation haute performance à partir de la cathode centrale LACS® hybride Procédés simultanés d'arc et de pulvérisation avec des cathodes LARC® dans la porte et une cathode SCIL® centrale Procédés de gravure Plusieurs technologies de gravure peuvent être utilisées avec l'unité de revêtement PLATIT Pi411 PLUS, offrant divers avantages : LGD® (Lateral Glow Discharge) Gravure au plasma avec argon, décharge luminescente