Machine de dépôt PVD PL711

Le PL711 est une unité compacte de revêtement par pulvérisation cathodique basée sur la technologie HiPIMS (High Power Impulse Magnetron Sputtering). Il possède deux cathodes HiPIMS planaires et permet de déposer des revêtements de nitrure et de carbone sélectionnés (DLC2, DLC3) en utilisant des processus hautement productifs. Le plasma dense avec une ionisation élevée dans le carrousel produit des revêtements homogènes et une vitesse de dépôt élevée. Les revêtements issus du PL711 permettent d'obtenir d'excellentes surfaces lisses tout en conservant une densité élevée, une grande dureté et une adhérence exceptionnelle. Technologie Une unité de revêtement PL711 utilise 2 cathodes de pulvérisation planaire avec la technologie HiPIMS. Procédés de gravure Plusieurs technologies de gravure peuvent être utilisées dans l'unité de revêtement PLATIT PL711, offrant divers avantages : LGD® (Lateral Glow Discharge) Gravure au plasma avec argon, décharge luminescente Gravure par ions métalliques (Ti, Cr) Types de dépôt Revêtements de nitrure par pulvérisation cathodique Procédés réactifs et non réactifs Cibles : Ti, Cr Température de revêtement jusqu'à 350°C Sputter Cr et PECVD a-C:H:Si DLC2 (revêtement PECVD) Cibles : Cr Température de revêtement 180-220°C Temps de charge et de cycle Volume de revêtement : max. ø600 x H805mm Hauteur de revêtement avec épaisseur de revêtement définie : max. 500 mm Charge : max. 250kg, poids supérieur sur demande Lots/jour : 2 Systèmes de carrousels modulaires 3 axes ou 6 axes ou 9 axes Logiciel Logiciel PLATIT SmartSoftware (système PC et PLC) Facilité d'utilisation et de maintenance Interface utilisateur moderne avec navigation par menu sur écran tactile Visualisation du processus en temps réel, y compris l'enregistrement et la gestion des données Contrôle manuel et automatique du processus Possibilité de diagnostic et de maintenance à distance