Système de lithographie pour l'industrie des semi-conducteurs JetStep® G35

système de lithographie pour l'industrie des semi-conducteurs
système de lithographie pour l'industrie des semi-conducteurs
Ajouter à mes favoris
Ajouter au comparateur
 

Caractéristiques

Type
pour l'industrie des semi-conducteurs

Description

Conçu pour la flexibilité, le système JetStep® G35 utilise une famille de lentilles de projection haute performance pour permettre une imagerie haute résolution pour les fabricants d'écrans plats. Aperçu du produit Le système Jetstep G35 est un système d'imagerie de fabrication à haut volume pour les écrans jusqu'à Gen 3.5. Le système JetStep G35 permet une imagerie de haute résolution jusqu'à 1,5 µm, combinée à la précision d'enregistrement et d'assemblage requise par la fabrication la plus avancée d'écrans haute résolution. Applications - LCD - TFT - AMOLED - Micro-LED Spécifications - Objectif de projection et système d'illumination haute fidélité pour une résolution de 1,5 µm - Format de réticule standard de 6 pouces pour une fabrication rentable - Contrôle automatisé du grossissement pour augmenter la fenêtre de traitement - Système de gestion des réticules embarqué pour une utilisation maximale - Système de métrologie intégré pour l'étalonnage in situ - Mise au point automatique à la volée sur chaque site d'exposition pour ajuster automatiquement la mise au point en fonction de la topologie du panneau - Diagnostics embarqués qui fournissent un retour d'information sur les performances du système et le dépannage

---

Catalogues

Aucun catalogue n’est disponible pour ce produit.

Voir tous les catalogues de Onto Innovation Inc.
* Les prix s'entendent hors taxe, hors frais de livraison, hors droits de douane, et ne comprennent pas l'ensemble des coûts supplémentaires liés aux options d'installation ou de mise en service. Les prix sont donnés à titre indicatif et peuvent évoluer en fonction des pays, des cours des matières premières et des taux de change.