Système de métrologie pour semiconducteurs Iris™ series

La série d'outils Iris, qui comprend les modèles Iris C1, T1 et R1, permet le contrôle de processus dans une large gamme d'applications dans la fabrication en grande série avec d'excellentes performances ainsi qu'un coût de possession. Aperçu des produits La série Iris a pour objectif d'offrir à nos clients le meilleur coût de possession avec une configuration optique spécifique pour les applications HVM dans la fabrication de semi-conducteurs. Le système Iris C1 combine une solution d'ellipsométrie spectroscopique propriétaire de la famille Atlas® avec le logiciel d'analyse AI-Diffract™ OCD d'Onto Innovation, leader sur le marché, permettant un contrôle de haute précision de chaque étape critique du processus de fabrication des semi-conducteurs. Le système intègre un robot à deux bras, une platine de haute précision et un système de mise au point à grande vitesse. Le système est également doté d'une reconnaissance avancée des formes, d'une meilleure reproductibilité des épaisseurs et d'un meilleur débit. L'interface logicielle N2000™ et l'automatisation avancée sont conformes aux normes adoptées par SEMI et d'autres organisations. Le système Iris et la solution AI-Diffract offrent un aperçu des profils de structures complexes à travers la gravure, le nettoyage, le dépôt, le CMP et les couches minces. L'Iris T1 est un système d'ellipsomètre spectroscopique qui fournit des mesures en ligne précises et répétables de l'épaisseur et de la constante optique de films diélectriques à une ou plusieurs couches pour des applications à l'échelle d'une usine. Construit sur la même plateforme Atlas qui a fait ses preuves, le système Iris T1 tire parti des avancées les plus récentes en matière d'optique et d'algorithmes, ce qui en fait le meilleur de sa catégorie en termes de performances et de coût de possession. L'interface logicielle N2000™ conforme aux normes SEMI/CE permet le partage de recettes entre les outils de la série Iris.