Système de métrologie pour semiconducteurs Aspect®

Le nouveau système de métrologie Aspect est une plateforme optique révolutionnaire conçue pour relever les défis actuels et futurs des dispositifs NAND 3D avancés. Aperçu du produit La densité de la mémoire augmente avec la mise à l'échelle des paires de couches et l'empilement des niveaux pour des piles de mémoire dépassant largement les 200 paires. Le système de métrologie Aspect a été conçu en tenant compte de ces futures architectures et stratégies de mise à l'échelle. La métrologie Aspect démontre des performances supérieures à celles des systèmes à rayons X sur de nombreux dispositifs de clients grâce à un système optique infrarouge révolutionnaire offrant une capacité de profilage complet pour permettre un contrôle critique de la gravure et du dépôt, avec la vitesse et la couverture de processus que les clients exigent. Le système Aspect est alimenté par un puissant moteur d'analyse logicielle, la technologie AI-Diffract™, qui offre un temps de réponse jusqu'à 90 % plus rapide, et qui étend le logiciel NanoDiffract®, leader sur le marché, en s'appuyant sur des capacités d'apprentissage automatique étendues et une modélisation haute fidélité. Il en résulte une amélioration simultanée des performances métrologiques et une réduction significative du temps de résolution. Applications - Gravure, nettoyage et dépôt pour Gen7 3D NAND et au-delà - Gravure et implantation pour CIS - Gravure et implantation pour les DRAM - Caractérisation des matériaux sur le dispositif pour la logique avancée