Système de métrologie pour wafers OCD

La technologie OCD Solutions optimise l'ensemble des capacités et la connectivité des systèmes Atlas et IMPULSE pour la métrologie des dimensions critiques optiques (OCD) Aperçu du produit La technologie OCD d'Onto Innovation offre de puissantes capacités de modélisation OCD et d'apprentissage automatique avancé, ainsi qu'une régression en temps réel de nouvelle génération, des outils d'analyse de sensibilité hors ligne et une interface graphique complète et une entrée de structure pour une véritable modélisation multi-variante. Les progiciels Ai Diffract et SpectraProbe offrent tous deux des capacités avancées dans des facteurs de forme matériels intuitifs et faciles à déployer. Chaque composant étend les capacités OCD aux systèmes de métrologie autonomes et intégrés d'Atlas et d'IMPULSE, de la prise en charge et du développement de recettes hors ligne à la mise en réseau et à la connectivité à l'échelle de l'usine pour une gestion aisée du parc. Logiciel Ai Diffract™ Logiciel de modélisation et d'analyse OCD guidé par l'IA pour la métrologie optique en ligne de haute précision et le développement de recettes hors ligne Le logiciel Ai Diffract est un puissant logiciel de modélisation, de visualisation et d'analyse doté d'une interface de modélisation 3D intuitive pour simplifier la construction et la visualisation des dispositifs à semi-conducteurs les plus complexes d'aujourd'hui. Les algorithmes d'ajustement propriétaires du logiciel Ai Diffract permettent des calculs rapides et précis pour le traitement du signal afin d'obtenir des mesures de haute fidélité basées sur un modèle. Les fonctions d'automatisation pour l'ajustement spectral, l'optimisation des recettes et l'analyse de sensibilité offrent une grande productivité aux utilisateurs. Le premier moteur guidé par l'IA du marché met en synergie la modélisation basée sur la physique et l'apprentissage automatique pour fournir la solution la plus robuste avec un temps de réponse rapide.