Système de métrologie pour wafers IMPULSE V

pour semiconducteurs

Plateforme de métrologie intégrée alimentée par des solutions optiques et d'apprentissage automatique à la pointe de l'industrie, combinant haute sensibilité et haut débit pour les applications CMP, de dépôt, de gravure et de lithographie. Présentation du produit Système IMPULSE V Avec des tolérances d'uniformité plus strictes entre les tranches et au sein d'une même tranche, les systèmes de métrologie intégrés sont utilisés à différentes étapes du traitement des semi-conducteurs. Basé sur une technologie optique haute résolution éprouvée, le système IMPULSE V offre une plus grande sensibilité aux mesures de résidus de couches minces pendant le processus CMP. La plateforme IMPULSE est dotée du matériel le plus fiable de l'industrie, avec les meilleures mesures de fiabilité et de productivité de sa catégorie. Le système IMPULSE V de nouvelle génération étend cette fiabilité à un débit nettement plus élevé, en phase avec les besoins d'échantillonnage plus important, de mesures dans la puce / sur le dispositif et sur le bord de la tranche. L'optique avancée et la chambre de mesure spécialement conçue offrent une amélioration significative du rapport signal/bruit (SNR), permettant de multiplier par deux la précision par rapport à la génération précédente de métrologie intégrée. L'apprentissage automatique intégré utilise le rapport signal/bruit supplémentaire pour compléter cet ensemble puissant, ce qui permet d'accélérer la résolution des problèmes et de combler les lacunes des couches qui n'étaient pas mesurables auparavant avec les outils existants. Le système IMPULSE V et le système Atlas V forment une solution complète de mesure des dimensions critiques des couches minces et optiques pour les fabriques de semi-conducteurs, permettant un rendement plus élevé grâce à la transmission d'informations et à l'échange transparent de recettes et de données.