Système de métrologie pour wafers The Atlas XP+

Système de métrologie pour wafers - The Atlas XP+ - Onto Innovation Inc.
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Caractéristiques

Type
pour wafers

Description

La série Atlas pour couches minces et OCD est l'outil de métrologie pour la fabrication de dispositifs de pointe FinFET, GAA (gate-all-around) FET, 3D NAND et DRAM avancés. Le système Atlas XP+ offre une plate-forme unique pour les mesures de couches minces et d'OCD pour la métrologie des plaquettes de 200 mm. Le système comprend un robot à deux bras, une platine de haute précision et un système de mise au point à grande vitesse. Le système est également doté d'une reconnaissance avancée des formes, d'une meilleure reproductibilité des épaisseurs et d'un débit supérieur pour les SR et SE. L'interface logicielle N2000™ et l'automatisation avancée sont conformes aux normes adoptées par SEMI et d'autres organisations. La fonction NanoNet®, un composant réseau du logiciel de la plateforme d'analyse N2000, permet une correspondance entre les systèmes et une transférabilité transparente des recettes.

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* Les prix s'entendent hors taxe, hors frais de livraison, hors droits de douane, et ne comprennent pas l'ensemble des coûts supplémentaires liés aux options d'installation ou de mise en service. Les prix sont donnés à titre indicatif et peuvent évoluer en fonction des pays, des cours des matières premières et des taux de change.