Le choix de l'objectif est très important pour le système d'imagerie et il aura un impact sur le résultat de la détection. Afin de sélectionner l'objectif adéquat, les paramètres fondamentaux du système d'imagerie doivent être connus. Au minimum, la distance de travail (WD), le champ de vision (FOV), la longueur focale, l'ouverture et l'interface de connexion sont des contraintes nécessaires avant de pouvoir sélectionner correctement un objectif. Les ingénieurs de Techtronic peuvent aider à sélectionner différents objectifs adaptés à l'application.
Les séries d'objectifs industriels OdinVision comprennent L'objectif télécentrique bilatéral DTM, l'objectif industriel ultra-haute performance DT, l'objectif haute performance 2K, l'objectif télécentrique mégapixel 2H, l'objectif télécentrique industriel standard 2L et l'objectif HD FA, afin de répondre aux besoins des clients en matière de champ de vision et de précision. En réponse à la demande du marché pour une haute précision dans un large champ de vision, les objectifs télécentriques d'OdinVision ont été continuellement mis à niveau et améliorés, permettant de mesurer la précision au niveau du micron.
Caractéristiques
- Objectif télécentrique haute résolution pour l'espace-objet, compatible avec les caméras à balayage de surface de 5 à 20 millions de pixels.
- Diverses conceptions à faible grossissement sont disponibles pour les scénarios d'application avec un champ de vision plus large.
- Haute définition, faible distorsion, télécentricité élevée, particulièrement adapté aux applications AOI et de positionnement de haute précision.
- Longue distance de travail pour faciliter l'éclairage et la mise en place des composants de la machine.
- La spécification optique coaxiale intégrée est particulièrement adaptée aux wafers, aux dispositifs en verre et aux dispositifs d'affichage.
- Peut être rapidement personnalisé pour s'adapter aux différentes spécifications des caméras, ainsi qu'aux exigences en matière de grossissement, de distance de travail et de profondeur de champ.
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