Système de lithographie laser Quantum X

Nanoscribe Quantum X est le premier système au monde de lithographie à deux photons en échelle de gris pour la microfabrication sans masque de microoptiques réfractives et diffractives Découvrez le nouveau Quantum X Le tout nouveau système Nanoscribe Quantum X est conçu pour la microfabrication de prototypes et de maîtres dans les processus de production industrielle. Ce système de lithographie sans masque redéfinit la fabrication de microoptiques à forme libre, de réseaux de microlentilles et d'éléments optiques diffractifs à plusieurs niveaux. Le premier système au monde de lithographie en échelle de gris à deux photons (2GL ®) combine les performances extraordinaires de la lithographie en échelle de gris avec la précision et la flexibilité de la technologie pionnière de polymérisation à deux photons de Nanoscribe. Quantum X offre une grande vitesse, une liberté de conception totale et la précision nécessaire pour la fabrication additive de structures complexes nécessitant une grande précision de forme et des surfaces ultra-lisses. Les processus de fabrication additive rapides et précis réduisent considérablement les cycles d'itération de conception et permettent une microfabrication rentable. Lithographie à deux photos en niveaux de gris Cette technologie de pointe combine la microfabrication additive et le réglage ultra-rapide de la taille des voxels : La lithographie à deux photons en échelle de gris (L2G) ouvre la voie à une microfabrication ultra-rapide, précise et libre sans compromettre la vitesse ou la précision. Quantum X contrôle la taille des voxels sur un plan de balayage en utilisant la modulation synchronisée de la puissance du laser à grande vitesse. De cette manière, des formes complexes sont produites et des hauteurs de caractéristiques variables sont réalisables dans un seul champ de balayage.