Capteur de gaz SF6 VKM2002985

micro-flux NDIRpour mesure des procédéspour le contrôle de la sécurité des gaz industriels

L'hexafluorure de soufre est toujours indispensable dans de nombreuses applications en tant que gaz de trace, de protection ou d'isolation. En raison de l'effet de serre élevé du SF6, il est d'autant plus important de manipuler ce gaz de manière responsable. Le capteur MicroFLOW SF6.100 Vol.-% est adapté à une large gamme d'applications exigeantes qui requièrent précision et fiabilité. DOMAINES D'APPLICATION Industrie : Le SF6 est utilisé dans les procédés de gravure au plasma pour créer des motifs précis sur les matériaux semi-conducteurs tels que le silicium, le dioxyde de silicium et d'autres composés. Le gaz est utilisé dans des chambres de gravure spéciales où il est converti en plasma par l'application d'une énergie à haute fréquence. Ce plasma réagit alors de manière sélective avec le matériau et permet de graver ou d'enlever avec précision des matériaux dans le cadre d'un processus très contrôlé et précis. Dans la production d'aluminium, l'hexafluorure de soufre est utilisé comme gaz traceur pour améliorer l'efficacité du processus de production et détecter les problèmes potentiels à un stade précoce. Il est également utilisé dans ce domaine pour contrôler la qualité et l'uniformité du produit final. Technologie de l'énergie : Dans le domaine de l'approvisionnement en électricité, le SF6 est utilisé comme gaz isolant et agent de refroidissement dans les appareillages de commutation et les transformateurs à haute tension. La mesure de l'hexafluorure de soufre est importante pour identifier les fuites à un stade précoce et pour surveiller l'état des systèmes. PRÉCISION DE LA MESURE Notre capteur de gaz NDIR permet d'obtenir des résultats précis lors de la mesure et de la surveillance de l'hexafluorure de soufre. Grâce à la linéarisation en 10 points, l'écart maximal de la concentration de gaz mesurée est inférieur à 1 % sur toute la plage de mesure jusqu'à 100 % en volume.