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Machine de dépôt PVD MINIPEROvappar pulvérisation cathodique à magnétronpar évaporation thermiqueassisté par faisceau d'ions
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Caractéristiques
- Méthode
- PVD
- Technologie
- par pulvérisation cathodique à magnétron, par évaporation thermique, assisté par faisceau d'ions
- Type de dépôt
- de couches minces
- Autres caractéristiques
- sous vide
- Applications
- pour l'industrie de la microélectronique, pour applications photovoltaïques
Description
Mini chambre PVD 100% dédiée aux pérovskites
• Peut être intégrée dans les boîtes à gants MBRAUN existantes (via une antichambre)
• Design compact
• Pour des substrats jusqu'à 50x50 mm
• Jusqu'à 4 sources
• Uniformité de la couche < +/-5 %.
• Solution économique
• Délai de livraison court
• Installation facile dans les boîtes à gants existantes
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* Les prix s'entendent hors taxe, hors frais de livraison, hors droits de douane, et ne comprennent pas l'ensemble des coûts supplémentaires liés aux options d'installation ou de mise en service. Les prix sont donnés à titre indicatif et peuvent évoluer en fonction des pays, des cours des matières premières et des taux de change.