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Machine de dépôt par pulvérisation cathodique à magnétron PROvappar évaporation thermiqueassisté par faisceau d'ionsde couches minces
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Caractéristiques
- Technologie
- par pulvérisation cathodique à magnétron, par évaporation thermique, assisté par faisceau d'ions
- Type de dépôt
- de couches minces
- Autres caractéristiques
- sous vide
- Applications
- pour l'industrie de la microélectronique, pour applications photovoltaïques
Description
• Système intégré en boîte à gants
• Solution compacte et économique
• Design simple
• Co-déposition
• Uniformité jusqu'à +/-3 % (avec une conception géométrique spécifique jusqu'à +/1 %)
• Deux tailles standard : PROvap 4G et PROvap 5G
• Jusqu'à 8 sources de dépôt possibles
• Taille du substrat jusqu'à 100x100 mm ou diam. 100 mm (4") pour PROvap 4G
• Taille du substrat jusqu'à 150x150 mm ou diam. 150 mm (6") pour PROvap 5G
• OLEDs & Électronique Organique
• Photovoltaïque Organique
• Batteries
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* Les prix s'entendent hors taxe, hors frais de livraison, hors droits de douane, et ne comprennent pas l'ensemble des coûts supplémentaires liés aux options d'installation ou de mise en service. Les prix sont donnés à titre indicatif et peuvent évoluer en fonction des pays, des cours des matières premières et des taux de change.